2024年5月5日发(作者：3d打印机应用及真实案例)

真空蒸发镀膜 1、真空蒸发镀膜原理 真空镀膜按其技术种类可分成

以下

真空蒸发镀膜

1、真空蒸发镀膜原理

真空镀膜按其技术种类可分成以下几类:一:真空蒸发,包括电阻式加热蒸发,电子束加热

蒸发，低压大电流反应蒸发等,,二:真空溅射,包括二极溅射、射频溅射、反应溅射、非平衡

磁控溅射、中频磁控反应溅射等,,三:离子镀,包括溅射离子镀、空心阴极离子镀膜、反应离

子镀、真空电弧离子镀等,。

真空获得、真空测量取得的进展是薄膜技术迅

速实现产业化的决定性的因素。真空镀膜方法的不断改进开创了真空技术在薄膜领域

应用的新篇章. 真空蒸发和溅射这两种真空物理镀膜工艺，是迄今在工业上能够制备光学

薄膜的两种最主要的工艺。真空离子镀是大批量生产耐磨硬质膜层,如

机械泵TiC，TiN等,的主要的工艺，在油扩散泵---抽气系统出现之后，它们才获得

大规模地应用。

真空蒸发镀膜的原理是:先将镀膜室内的气体

-2抽到10Pa以下的压强，通过加热蒸发源使臵于蒸发源中的物质蒸发，蒸汽的原子

或分子从蒸发源表面逸出，沉积到基片上凝结后 形成薄膜，它包括抽气,蒸发,沉积等基本

过程。

真空环境是镀膜的首要条件:,1,可防止在高温下因空气分子和蒸发源发生反应，而使

蒸发源劣化,,2,可防止蒸汽原子或分子在沉积到基片上的途中和空气分子碰撞而阻碍蒸汽

原子或分子直接到达基片表面，以及由于蒸汽原子、分子间的相互碰撞而在到达基片表面

前就凝聚，或在途中就生成其它化合物,,3,可防止在形成薄膜的过程中，空气分子作为杂

质混入膜内或在膜中形成其它化合物。

真空蒸发镀膜常用的蒸发源有电阻式加热蒸发

源、电子束加热蒸发源、激光加热蒸发源、空心热阴极等离子束加热蒸发源、感应式