2024年3月30日发(作者：移动硬盘品牌前十大排名)
光刻胶发展至今已有百年历史，现已广泛用于集成电路、显示、PCB等领
域，是光刻工艺的核心材料。高壁垒和高价值量是光刻胶的典型特征。光刻
胶属于技术和资本密集型行业，全球供应市场高度集中。而目前，我国光刻
胶自给率较低，生产也主要集中在中低端产品，国产替代的空间广阔。随着
国内厂商在高端光刻胶领域的逐步突破，未来国产替代进程有望加速。
下面我们通过对光刻胶概述、发展壁垒、相关政策、产业链及相关公司等方
面进行深度梳理，试图把握光刻胶未来发展。
01
1.光刻是光电信息产业链中核心环节
光刻胶行业概述
光刻技术是指利用光学-化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将图形传递
到介质层上，形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术，是光电信息产业链
中的核心环节之一。以芯片制造为例，在晶圆清洗、热氧化后，需通过光刻
和刻蚀工艺，将设计好的电路图案转移到晶圆表面上，实现电路布图，之后
再进行离子注入、退火、扩散、气相沉积、化学机械研磨等流程，最终在晶
圆上实现特定的集成电路结构。
2.光刻胶是光电工艺核心材料
光刻胶，又称光致抗蚀剂，是一种对光敏感的混合液体，是光刻工艺中最核
心的耗材，其性能决定着光刻质量。作为图像转移“中介”，光刻胶是通过曝
光显影蚀刻工艺发挥转移作用，首先将光刻胶涂覆于有功能层的基底上，然
后紫外光通过掩膜版进行曝光，在曝光区促使光刻胶发生溶解度变化反应，
选择性改变其在显影液中的溶解度，未溶解部分最后在蚀刻过程中起保护
作用，从而将掩模版上的图形转移到基底上。
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